Teknoloji bağımlılığının bağlanma stilleri ve kimlik duygusu açısından incelenmesi

Abstract

Bu araştırmada teknoloji bağımlılığı ile bağlanma stilleri ve kimlik duygusu arasında nasıl bir ilişki olduğunun ve bağlanma stilleri ve kimlik duygusunun birlikte teknoloji bağımlılığını ne kadar yordadığının araştırılması amaçlanmıştır. Araştırma yaşları 18 ile 55 arasında değişen 170'i (%59,9) kadın ve 114'ü (%40,1) erkek, yaş ortalaması 28,69 olan toplam 284 katılımcı üzerinde gerçekleştirilmiştir. Araştırma verilerini toplamak için Demografik Bilgi Formu, Teknoloji Bağımlılık Ölçeği (TBÖ), Kimlik Duygusu Değerlendirme Aracı (KDDA) ve İlişki Ölçekleri Anketi (İÖA) kullanılmıştır. Araştırmanın sonucu için elde edilen veriler "SPSS for Windows 22.0" programı ile analiz edilmiştir. Analiz sonucunda TBÖ, KDDA ve İÖA alt ölçekleri olan kayıtsız bağlanma ve saplantılı bağlanma puanlarının cinsiyete göre farklılaşmadığı görülmektedir. Araştırmada korkulu bağlanma puanından kadınlar, güvenli bağlanma puanından ise erkekler daha yüksek puan almışlardır. Ergen grubun KDDA ortalama puanlarının yetişkin grubundan, yetişkin grubun güvenli bağlanma puanlarının da ergen grubundan daha yüksektir. TBÖ, KDDA ve İÖA alt ölçekleri eğitim durumuna göre gruplar arası istatiksel açıdan anlamlı bir fark göstermemektedir. Yaş ile TBÖ ve KDDA arasında negatif yönlü, İÖA alt ölçeği olan güvenli bağlanma arasında ise pozitif yönlü ilişki çıkmıştır. Diğer İÖA alt ölçekleri olan korkulu, kayıtsız ve saplantılı bağlanmanın yaş ile ilişkisi çıkmamıştır. İÖA alt ölçekleri olan korkulu bağlanma, kayıtsız bağlanma ve saplantılı bağlanma TBÖ ile negatif yönde; güvenli bağlanma pozitif yönde ilişkili çıkmıştır. TBÖ ve KDDA toplam puanları arasında pozitif yönlü bir ilişki çıkmıştır. KDDA toplam puanı, İÖA alt ölçekleri olan güvenli bağlanma, korkulu bağlanma, kayıtsız bağlanma ve saplantılı bağlanma puanları birlikte teknoloji bağımlılığı toplam puanını yordamakta ve teknoloji bağımlılığına ait varyansın %19,8'ini açıklamaktadır.

In this study, it was aimed to investigate the relationship between technology addiction and attachment styles and sense of identity, and to what extent attachment styles and sense of identity together predict technology addiction. The research was carried out on a total of 284 participants, 170 (59.9%) female and 114 (40.1%) male, with an average age of 28.69, aged between 18 and 55. Demographic Information Form, Technology Addiction Scale (TAS), Instrument for Assessing Identity Confusion (IFAIC) and Relationship Scales Questionnaire (RSQ) were used to collect the research data. The data obtained for the result of the study were analyzed with the "SPSS for Windows 22.0" program. As a result of the analysis, it is seen that the scores of dismising attachment and preoccupied attachment, which are the subscales of RSQ, TAS and IFAIC, do not differ according to gender. In the study, women scored higher in fearful attachment score, and men in secure attachment score. The adolescent group's IFAIC mean scores are higher than the adult group, and the secure attachment scores of the adult group are higher than the adolescent group. There is no statistically significant difference between the groups in terms of the education level of the subscales of the RSQ, TAS and IFAIC. There was a negative correlation between age and TAS and SIA, and a positive correlation between secure attachment, which is the IFAIC subscale. Fearful, indifferent, and preoccuiped attachment, which are other RIA subscales, were not associated with age. Fearful attachment, dismissing attachment, and preoccupied attachment, which are the subscales of the RSQ, were negatively associated with the TAS; secure attachment was positively correlated. A positive correlation has been found between the RSQ and the total scores of IFAIC. The total score of IFAIC, secure attachment, fearful attachment, dismissing attachment and preoccuiped attachment scores, which are the subscales of RSQ, predict technology addiction total score and explain 19.8% of the variance of technology addiction.